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數控切割機在日常操作過程中的工藝的至關重要性

以下為(wei)蘇州(zhou)卡斯倍諾(nuo)數控科技小編為(wei)大家分(fen)享的一些經驗，以供大家分(fen)享：

一(yi)(yi)般數控切(qie)(qie)割(ge)機(ji)在(zai)執行切(qie)(qie)割(ge)前需要完成作圖(tu)及數控火焰(yan)切(qie)(qie)割(ge)機(ji)的(de)(de)編(bian)輯及處(chu)理，為(wei)保證工件(jian)質量(liang)，一(yi)(yi)般不在(zai)工作輪廓上直接安排穿(chuan)透點（即(ji)打火點），而(er)是(shi)使其(qi)離開弓箭一(yi)(yi)段(duan)距離，經過一(yi)(yi)段(duan)切(qie)(qie)割(ge)線后再進入(ru)工件(jian)輪廓，這段(duan)線通(tong)常稱之為(wei)切(qie)(qie)割(ge)引線或引入(ru)線。引入(ru)線的(de)(de)長度由材料的(de)(de)厚(hou)度和所采用(yong)的(de)(de)切(qie)(qie)割(ge)方法來確(que)定，一(yi)(yi)般來講，引線的(de)(de)長度隨(sui)厚(hou)度增(zeng)加而(er)加長。

引入線的安排應注意如下幾(ji)點：

1、引入線(xian)在(zai)不(bu)影響穿孔和切割(ge)的(de)(de)情況(kuang)下，應(ying)盡(jin)可(ke)能的(de)(de)短，其引入方(fang)(fang)向應(ying)與切割(ge)機運(yun)(yun)行方(fang)(fang)向盡(jin)可(ke)能一致(zhi)。在(zai)穿孔時飛(fei)濺(jian)的(de)(de)熔渣應(ying)不(bu)飛(fei)向切割(ge)機，而是向切割(ge)機啟動運(yun)(yun)行的(de)(de)反方(fang)(fang)向飛(fei)去。

2、引入(ru)線在(zai)切割工件內腔時的安(an)排

①直引線，在實際且各種，直引線最為常用，但在切割起、終點處容易遺留一個凹痕和小尾巴。內腔是方形時，引線一般從某一角切入，圓形內腔一般沒什么要求。
②圓引線(xian)，如果(guo)要求較高質(zhi)量的切割接(jie)點，最好(hao)使用(yong)園引線(xian)，

③引(yin)線在(zai)切割工件外形時(shi)的安(an)排在(zai)切割外形時(shi)，一般采用直引(yin)線。

④設計引入線，還應盡(jin)可能(neng)減少材料浪費，有時需(xu)配(pei)合套(tao)料來(lai)考慮。

一般認為電源正常輸出電壓即為切割電壓。數控火焰切割機通常有較高的空載電壓和工作電壓，在使用電離能高的氣體如氮氣、氫氣或空氣時，穩定等離子弧所需的電壓會更高。當電流一定時，電壓的提高意味著電弧焓值的提高和切割能力的提高。如果在焓值提高的同時，減小射流的直徑并加大氣體的流速，往往可以獲得更快的切割速度和更好的切割質量。
　　1、氧(yang)氣(qi)可以(yi)提高(gao)(gao)切(qie)(qie)割(ge)低碳鋼材料的速度。使(shi)用氧(yang)氣(qi)進行切(qie)(qie)割(ge)時，切(qie)(qie)割(ge)模式與火焰切(qie)(qie)割(ge)很(hen)想像，高(gao)(gao)溫高(gao)(gao)能的等離子弧(hu)使(shi)得(de)切(qie)(qie)割(ge)速度更(geng)快，但(dan)是必(bi)須配合使(shi)用抗高(gao)(gao)溫氧(yang)化的電(dian)極，同時對電(dian)極進行起弧(hu)時的防沖擊保(bao)護，以(yi)延長(chang)電(dian)極的壽命。

　　2、氫(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)通常(chang)是(shi)作為輔助氣(qi)(qi)體(ti)(ti)與(yu)其它氣(qi)(qi)體(ti)(ti)混和作用(yong)(yong)，如著名(ming)的(de)(de)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)H35（氫(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)的(de)(de)體(ti)(ti)積分數為35％，其余為氬(ya)氣(qi)(qi)）是(shi)等離(li)子弧(hu)切(qie)割能(neng)力(li)最強的(de)(de)氣(qi)(qi)體(ti)(ti)之一(yi)，這主要得利于氫(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)。由于氫(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)能(neng)顯著提高電(dian)弧(hu)電(dian)壓(ya)，使(shi)氫(qing)(qing)(qing)等離(li)子射(she)流有(you)很(hen)高的(de)(de)焓值，當與(yu)氬(ya)氣(qi)(qi)混合使(shi)用(yong)(yong)時(shi)，其等離(li)子射(she)流的(de)(de)切(qie)割能(neng)力(li)大大提高。一(yi)般對厚度70mm以上(shang)的(de)(de)金屬材(cai)料，常(chang)用(yong)(yong)氬(ya)＋氫(qing)(qing)(qing)作為切(qie)割氣(qi)(qi)體(ti)(ti)。若使(shi)用(yong)(yong)水射(she)流對氬(ya)＋氫(qing)(qing)(qing)氣(qi)(qi)等離(li)子弧(hu)進(jin)一(yi)步壓(ya)縮，還(huan)可獲得更高的(de)(de)切(qie)割效率。

　　3、空(kong)(kong)氣(qi)(qi)(qi)中含(han)有體積分數(shu)約78%的(de)(de)(de)氮(dan)氣(qi)(qi)(qi)，所(suo)(suo)以利用(yong)(yong)(yong)空(kong)(kong)氣(qi)(qi)(qi)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)所(suo)(suo)形成(cheng)的(de)(de)(de)掛(gua)渣(zha)情(qing)況(kuang)與用(yong)(yong)(yong)氮(dan)氣(qi)(qi)(qi)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)時很想像；空(kong)(kong)氣(qi)(qi)(qi)中還含(han)有體積分數(shu)約21%的(de)(de)(de)氧氣(qi)(qi)(qi)，因為(wei)氧的(de)(de)(de)存在(zai)(zai)，用(yong)(yong)(yong)空(kong)(kong)氣(qi)(qi)(qi)的(de)(de)(de)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)低(di)碳(tan)鋼材料的(de)(de)(de)速(su)度(du)(du)也(ye)很高；同時空(kong)(kong)氣(qi)(qi)(qi)也(ye)是(shi)最經濟的(de)(de)(de)工(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)氣(qi)(qi)(qi)體。但(dan)單獨使用(yong)(yong)(yong)空(kong)(kong)氣(qi)(qi)(qi)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)時，會(hui)有掛(gua)渣(zha)以及切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)口(kou)(kou)氧化、增(zeng)氮(dan)等問題，而(er)且電極和噴(pen)(pen)(pen)嘴的(de)(de)(de)壽命(ming)較低(di)也(ye)會(hui)影響工(gong)作(zuo)(zuo)(zuo)效率和切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)成(cheng)本。由于等離子(zi)(zi)弧(hu)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)一般(ban)使用(yong)(yong)(yong)恒流(liu)(liu)(liu)或(huo)陡(dou)降外(wai)特征的(de)(de)(de)電源，噴(pen)(pen)(pen)嘴高度(du)(du)增(zeng)加后，電流(liu)(liu)(liu)變化很小，但(dan)會(hui)使弧(hu)長(chang)增(zeng)加并導致電弧(hu)電壓增(zeng)大，從而(er)使電弧(hu)功率提高；但(dan)同時也(ye)會(hui)使暴露在(zai)(zai)環境中的(de)(de)(de)弧(hu)長(chang)增(zeng)長(chang)，弧(hu)柱損失(shi)的(de)(de)(de)能(neng)(neng)(neng)量增(zeng)多(duo)。在(zai)(zai)兩個因素綜合作(zuo)(zuo)(zuo)用(yong)(yong)(yong)的(de)(de)(de)情(qing)況(kuang)下(xia)，前者的(de)(de)(de)作(zuo)(zuo)(zuo)用(yong)(yong)(yong)往往完全(quan)被(bei)后者所(suo)(suo)抵消，反而(er)會(hui)使有效的(de)(de)(de)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)能(neng)(neng)(neng)量減(jian)小，致使切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)能(neng)(neng)(neng)力(li)降低(di)。通常(chang)表(biao)現(xian)是(shi)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)射流(liu)(liu)(liu)的(de)(de)(de)吹力(li)減(jian)弱，切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)口(kou)(kou)下(xia)部殘留的(de)(de)(de)熔渣(zha)增(zeng)多(duo)，上(shang)部邊緣(yuan)過(guo)熔而(er)出現(xian)圓角等。另外(wai)，從等離子(zi)(zi)射流(liu)(liu)(liu)的(de)(de)(de)形態方面(mian)考慮(lv)，射流(liu)(liu)(liu)直徑(jing)在(zai)(zai)離開槍口(kou)(kou)后是(shi)向(xiang)外(wai)膨脹的(de)(de)(de)，噴(pen)(pen)(pen)嘴高度(du)(du)的(de)(de)(de)增(zeng)加必然引(yin)起切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)口(kou)(kou)寬度(du)(du)加大。所(suo)(suo)以，選用(yong)(yong)(yong)盡量小的(de)(de)(de)噴(pen)(pen)(pen)嘴高度(du)(du)對提高切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)速(su)度(du)(du)和切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)質量都是(shi)有益的(de)(de)(de)，但(dan)是(shi)，噴(pen)(pen)(pen)嘴高度(du)(du)過(guo)低(di)時可能(neng)(neng)(neng)會(hui)引(yin)起雙弧(hu)現(xian)象。采用(yong)(yong)(yong)陶瓷外(wai)噴(pen)(pen)(pen)嘴可以將(jiang)噴(pen)(pen)(pen)嘴高度(du)(du)設為(wei)零，即噴(pen)(pen)(pen)口(kou)(kou)端面(mian)直接接觸被(bei)切(qie)(qie)(qie)(qie)(qie)割(ge)表(biao)面(mian)，可以獲(huo)得很好的(de)(de)(de)效果(guo)。

　　4、氮(dan)氣(qi)是一種常用(yong)的(de)(de)(de)工作氣(qi)體，在有(you)較高(gao)電(dian)(dian)源電(dian)(dian)壓的(de)(de)(de)條件下(xia)，氮(dan)氣(qi)等離(li)子弧(hu)(hu)有(you)較好的(de)(de)(de)穩定性(xing)和比(bi)氬氣(qi)更高(gao)的(de)(de)(de)射(she)流能(neng)量，即使(shi)是切(qie)割(ge)液態金屬粘度大的(de)(de)(de)材料如(ru)不(bu)銹(xiu)鋼和鎳基(ji)合(he)金時(shi)，切(qie)口下(xia)緣的(de)(de)(de)掛渣量也(ye)很少。氮(dan)氣(qi)可以單獨使(shi)用(yong)，也(ye)可以同其它氣(qi)體混和使(shi)用(yong)，如(ru)自動(dong)化切(qie)割(ge)時(shi)經(jing)常使(shi)用(yong)氮(dan)氣(qi)或(huo)空氣(qi)作為工作氣(qi)體，這兩種氣(qi)體已經(jing)成為高(gao)速切(qie)割(ge)碳素鋼的(de)(de)(de)標準氣(qi)體。有(you)時(shi)氮(dan)氣(qi)還被用(yong)作氧等離(li)子弧(hu)(hu)切(qie)割(ge)時(shi)的(de)(de)(de)起(qi)弧(hu)(hu)氣(qi)體。

　　5、氬(ya)(ya)氣(qi)(qi)(qi)在(zai)高(gao)溫時幾乎不與任(ren)何金(jin)(jin)屬發生反應，氬(ya)(ya)氣(qi)(qi)(qi)數(shu)控等離子切(qie)割(ge)(ge)(ge)機很(hen)(hen)穩定。而(er)且所使用的(de)(de)噴嘴與電極(ji)有(you)(you)較(jiao)(jiao)高(gao)的(de)(de)使用壽命。但(dan)氬(ya)(ya)氣(qi)(qi)(qi)等離子弧的(de)(de)電壓較(jiao)(jiao)低，焓(han)值不高(gao)，切(qie)割(ge)(ge)(ge)能力有(you)(you)限，與空氣(qi)(qi)(qi)切(qie)割(ge)(ge)(ge)相比其切(qie)割(ge)(ge)(ge)的(de)(de)厚(hou)度大約會降(jiang)低25%。另外(wai)，在(zai)氬(ya)(ya)氣(qi)(qi)(qi)保護環(huan)(huan)境中，熔化(hua)金(jin)(jin)屬的(de)(de)表面(mian)張力較(jiao)(jiao)大，要比在(zai)氮氣(qi)(qi)(qi)環(huan)(huan)境下高(gao)出約30%，所以會有(you)(you)較(jiao)(jiao)多的(de)(de)掛渣(zha)問題。即使使用氬(ya)(ya)和其它氣(qi)(qi)(qi)體的(de)(de)混(hun)合氣(qi)(qi)(qi)切(qie)割(ge)(ge)(ge)也會有(you)(you)粘渣(zha)傾向。因(yin)此，現(xian)已很(hen)(hen)少單(dan)獨使用純氬(ya)(ya)氣(qi)(qi)(qi)進行等離子切(qie)割(ge)(ge)(ge)。

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